【日本】特許庁からのお知らせ

・「 改正意匠法に基づく新たな保護対象等についての意匠登録出願動向(2021年11月1日取得分)」を更新しました

令和 2 年 4 月 1 日に、特許法等の一部を改正する法律(令和元年 5 月 17 日法律第3号)が施行され(一部の規定を除く)、我が国意匠法において、新たに画像、建築物、内装の意匠を保護できるようになりました。
また、関連意匠制度も拡充され、本意匠の意匠公報発行後(基礎意匠の出願から10年を経過する日前まで)も関連意匠の出願が可能となりました。

これらの意匠の出願状況については、多くの企業等の皆様から高い関心が示されています。
そこで、当面の間、これらの意匠登録出願状況について、以下のとおりお知らせすることにします。

詳細は、下記をご参照ください。

出典:特許庁

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